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          物競編號 0PYA
          分子式 lnP
          分子量 145.79
          標簽 Indium phosphide, Indium(III) Phosphide, Indium monophosphide, 半導體材料

          編號系統(tǒng)

          CAS號:22398-80-7

          MDL號:MFCD00016153

          EINECS號:244-959-5

          RTECS號:NL1800000

          BRN號:暫無

          PubChem號:24862718

          物性數(shù)據(jù)

          1. 性狀:單晶呈銀灰色,質(zhì)地較軟

          2. 密度(g/mL,25/4℃):未確定

          3. 相對蒸汽密度(g/mL,空氣=1):未確定

          4. 熔點(oC):1600

          5. 沸點(oC,常壓):未確定

          6. 沸點(oC,5.2kPa): 未確定

          7. 折射率: 未確定

          8. 閃點(oC): 未確定

          9. 比旋光度(o): 未確定

          10. 自燃點或引燃溫度(oC): 未確定

          11. 蒸氣壓(kPa,25oC): 未確定

          12. 飽和蒸氣壓(kPa,60oC): 未確定

          13. 燃燒熱(KJ/mol):未確定

          14. 臨界溫度(oC): 未確定

          15. 臨界壓力(KPa): 未確定

          16. 油水(辛醇/水)分配系數(shù)的對數(shù)值: 未確定

          17. 爆炸上限(%,V/V):未確定

          18. 爆炸下限(%,V/V): 未確定

          19. 溶解性:極微溶于無機酸


          毒理學數(shù)據(jù)

          暫無

          生態(tài)學數(shù)據(jù)

          對水是稍微危害的,若無政府許可,勿將材料排入周圍環(huán)境

          分子結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)

          暫無

          計算化學數(shù)據(jù)

          1.疏水參數(shù)計算參考值(XlogP):無

          2.氫鍵供體數(shù)量:0

          3.氫鍵受體數(shù)量:0

          4.可旋轉(zhuǎn)化學鍵數(shù)量:0

          5.互變異構(gòu)體數(shù)量:無

          6.拓撲分子極性表面積0

          7.重原子數(shù)量:2

          8.表面電荷:0

          9.復雜度:10

          10.同位素原子數(shù)量:0

          11.確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0

          12.不確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0

          13.確定化學鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0

          14.不確定化學鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0

          15.共價鍵單元數(shù)量:1

          性質(zhì)與穩(wěn)定性

          1.如果遵照規(guī)格使用和儲存則不會分解

          避免接觸氧化物,酸。極微溶于無機酸。介電常數(shù):108。電子遷移率:約4600 cm2/V·s??昭ㄟw移率:約150 cm2/V·s。具有半導體的特性。

          2.它有較高的極限速度,所以,InP高頻器件的工作極限頻率比GaAs更高,電子擴散速率與電子遷移率之比小于GaAs,故更利于制作低噪聲器件。

          貯存方法

          保持貯藏器密封

          放入緊密的貯藏器內(nèi),儲存在陰涼,干燥的地方

          合成方法

          用高壓單晶爐制備磷化銦單晶是最主要的方法,并用摻等電子雜質(zhì)的方法降低晶體的位錯密度。而氣相外延,多采用In-PCl3-H2系統(tǒng)的歧化法,在該工藝中用銦(99.9999%)和三氯化磷(99.999%)之間的反應(yīng)來生長磷化銦層。
          氣相外延將石英反應(yīng)管放在雙溫區(qū)電爐中,已凈化的高純氫氣經(jīng)計量通入,氫氣也用來稀釋三氯化磷,此時彭泡器保持在0℃,通過反應(yīng)管內(nèi)的氫氣線速度為14 cm/min。外延生長分為誘個階段進行。
          在第一階段,將盛有銦的石英舟放在電爐中源區(qū),通入氫氣并加熱到700~850℃,再用氫氣將三氯化磷引入,在銦源上方被還原成磷蒸氣和氯化氫。鎘化氫與銦反應(yīng)生成一氯化銦蒸氣在管中遷移。磷溶解在銦中直至飽和為止。
          在第二階段,銦源保持在原位置不加熱,單晶襯底放在電爐的第二加溫區(qū)后,在氫氣氛下加熱到600~750℃。首先用氫氣將三氯化磷引入到管內(nèi)對襯底進行氣相腐蝕,清洗襯底表面。再將氫氣直接引入反應(yīng)管,并把源加熱到它的過飽和溫度(在操作中此溫度比襯底晶體的溫度高100℃)。然后通過氫氣鼓泡將三氯化磷引入,這時磷蒸氣與在源區(qū)生成的一氯化銦反應(yīng),在襯底上淀積生長出磷化銦層。當外延生長完成后,向系統(tǒng)中通入純氫氣,將兩個溫區(qū)冷卻到室溫,取出產(chǎn)物,制得磷化銦成品。

          2.取化學計量的銦和紅磷封入石英管中,反應(yīng)溫度在700℃經(jīng)350~400h,可制得InP,收率為94%~95%。

          3.用銦和比化學計算量略多的Zn3P2按合成AlP相同的方法,在700~800℃下加熱1~2日則可制得磷化銦。本法收率低。產(chǎn)物用稀鹽酸處理就可以得到純的InP。

          4.由鹵素反應(yīng)系統(tǒng)制取的方法。在高真空中,加熱650℃以上,使InP升華。欲制得純的InP,要使用過量的In。

          用途

          用作半導體材料,用于光纖通訊技術(shù),需要1.1~1.6-μm范圍內(nèi)的光源和接受器。在InP襯底上生長InGaAsP雙異質(zhì)結(jié)激光器既能滿足晶格匹配,又能滿足波長范圍的要求。

          安全信息

          危險運輸編碼:UN3288

          危險品標志:暫無

          安全標識:S24/25

          危險標識:暫無

          文獻

          暫無

          備注

          暫無

          表征圖譜