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          物競編號 0LA3
          分子式 TaSi2
          分子量 237.12
          標簽 硅化鉭, Tantalum silicide, 精細陶瓷

          編號系統(tǒng)

          CAS號:12039-79-1

          MDL號:MFCD00049564

          EINECS號:234-902-2

          RTECS號:暫無

          BRN號:暫無

          PubChem號:暫無

          物性數(shù)據(jù)

          1.       性狀:為暗灰色立方結(jié)晶粉末

          2.       密度(g/mL,25℃):9.14

          3.       相對蒸汽密度(g/mL,空氣=1):未確定

          4.       熔點(oC):2200

          5.       沸點(oC,常壓):未確定

          6.       沸點(oC,1mmHg):未確定

          7.       折射率:未確定

          8.       閃點(oC):未確定

          9.       比旋光度(o):未確定

          10.    自燃點或引燃溫度(oC):未確定

          11.    蒸氣壓(20oC):未確定

          12.    飽和蒸氣壓(kPa,60oC):未確定

          13.    燃燒熱(KJ/mol):未確定

          14.    臨界溫度(oC):未確定

          15.    臨界壓力(KPa):未確定

          16.    油水(辛醇/水)分配系數(shù)的對數(shù)值:未確定

          17.    爆炸上限(%,V/V):未確定

          18.    爆炸下限(%,V/V):未確定

          19.    溶解性:未確定

          20.晶格常數(shù):a=0.4778nm,c=0.6558nm

          21.顯微硬度(kg·mm-2):1407

          22.彈性模量(kg·K-1):30230

          23.導(dǎo)電率(Ω·cm-1):1.23×10-5

          24.比熱容(J/(g·℃)):0.33


          毒理學(xué)數(shù)據(jù)

          暫無

          生態(tài)學(xué)數(shù)據(jù)

          暫無

          分子結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)

          暫無

          計算化學(xué)數(shù)據(jù)

          1、   氫鍵供體數(shù)量:0

          2、   氫鍵受體數(shù)量:0

          3、   可旋轉(zhuǎn)化學(xué)鍵數(shù)量:0

          4、   拓撲分子極性表面積(TPSA):0

          5、   重原子數(shù)量:3

          6、   表面電荷:0

          7、   復(fù)雜度:18.3

          8、   同位素原子數(shù)量:0

          9、   確定原子立構(gòu)中心數(shù)量: 0

          10、   不確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0

          11、   確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0

          12、   不確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0

          13、   共價鍵單元數(shù)量:1

          性質(zhì)與穩(wěn)定性

          暫無

          貯存方法

          暫無

          合成方法

          1.以金屬鉭和硅粉為原料,將金屬鉭和硅粉進行粉碎并混合均勻,再將其放入石墨爐內(nèi)加熱至1100~1500℃進行預(yù)反應(yīng),然后通入氫氣,再升溫至800℃進行反應(yīng),即得硅化鉭。或者用氫化鈣還原五氧化二鉭得到氫化鉭,再加熱至1800℃得金屬鉭,然后加入硅粉合成得硅化鉭。

          2.將Si和Ta混合物先預(yù)熱至350℃,然后升溫至1480℃,加熱反應(yīng)。或令TaS2與SiHnX4-n在900℃下反應(yīng)制得。

          3.直接法 以金屬鉭和硅粉為原料制備硅化鉭,反應(yīng)式如下。
          首先將金屬鉭和硅粉進行粉碎并混合均勻,再將其放入石墨爐內(nèi)加熱至
          1100~1500℃進行預(yù)反應(yīng),然后通入氫氣,再升溫至1800.℃進行均化反應(yīng)1h,即得硅化鉭。

          4.五氧化二鉭還原法 首先用氫化鈣還原五氧化二鉭得到氫化鉭,再加熱至1800℃得金屬鉭,然后加入硅粉合成得硅化鉭。

          用途

          用作精細陶瓷原料粉。

          用于陶瓷工業(yè)以及電接觸器和半導(dǎo)體設(shè)備。

          安全信息

          危險運輸編碼:暫無

          危險品標志:暫無

          安全標識:暫無

          危險標識:暫無

          文獻

          暫無

          備注

          暫無

          表征圖譜