結構式
| 物競編號 | 1D58 |
|---|---|
| 分子式 | XeO3 |
| 分子量 | 179.288 |
| 標簽 | 暫無 |
CAS號:13776-58-4
MDL號:暫無
EINECS號:暫無
RTECS號:暫無
BRN號:暫無
PubChem號:暫無
暫無
暫無
暫無
暫無
暫無
無色易潮解的固體,斜方晶系結晶,有強烈的爆炸性,但在干燥的空氣中較穩定。密度4.55g/cm3,溶于水,在水溶液中是很強的氧化劑,在稀酸性溶液中是穩定的,在中性或堿性溶液中慢慢分解為Xe和O2,存在于堿中時為HXeO-4,在強堿中可形成Na4XeO6·xH2O。
暫無
如圖所示 制備三氧化氙和高氙酸鈉的裝置
A—Pyrex玻璃筒;B—主反應瓶;C—球形
燒瓶;D—連接管;E—燒瓶底部小孔;
F—三通;G—儲存管;H—U形冷阱
用六氟化氙水解生成三氧化氙是傳統的制備方法,有時也用四氟化氙水解歧化來制取三氧化氙,但這兩個反應都進行得很劇烈,并容易發生爆炸,下述的制備方法較安全。
制法 制備三氧化氙的實驗裝置如圖所示,此裝置同時也用來制備高氙酸鈉。
圖中A為儲存二氟磷酸的有刻度的Pyrex玻璃筒,此玻璃筒用一玻璃閥門與系統相連,一個倒置的球形燒瓶C用一個3/8英寸的連接管D連接到主反應瓶B上,在倒置的燒瓶C的底部有一孔E,在制備高氙酸鈉時可以從這里引入NaOH溶液。XeF6從儲存管G中通過一個聚三氟氯乙烯的T形連接管輸送到主反應器中,安裝在裝置上的聚三氟氯乙烯的U形冷阱H可以很容易的與XeF6儲存管G相互替換。
150mL的反應瓶B加熱干燥并抽空,通過真空系統使0.83g XeF6從儲存管G中轉移到反應瓶中,并用液氮使其冷卻到-195℃,在瓶底形成一個直徑約3cm固體片,轉移完后關閉反應瓶與真空系統的隔離閥,取下儲存管G換上U形冷阱H。打開反應瓶及HOPOF2儲存筒A與真空系統的隔離閥,使約1.2mL HOPOF2冷凝在XeF6之上,然后將HOPOF2儲存筒A從系統中拆除,以減小萬一發生爆燃所造成的損失。將反應瓶直接升溫到22℃,XeF6溶于HOPOF2而形成黃綠色的溶液。用0℃的冷浴冷卻反應瓶,而U形冷阱則用液氮冷卻至-195℃。在大約0℃時,反應瓶中開始強烈鼓泡,幾乎瞬間即沉淀出白色的XeO3結晶。慢慢將剩余的HOPOF2、HF和OPF3抽出,直至沒有明顯的氣體揮發出來為止。反應瓶中留下的結晶即為XeO3產品。
用作氧化劑。
危險運輸編碼:暫無
危險品標志:暫無
安全標識:暫無
危險標識:暫無
None
None
共收錄化學品數據
147579 條