結構式
| 物競編號 | 1D5A |
|---|---|
| 分子式 | XeF4 |
| 分子量 | 207.284 |
| 標簽 | 暫無 |
CAS號:13709-61-0
MDL號:暫無
EINECS號:237-251-2
RTECS號:ZE1294166
BRN號:暫無
PubChem號:暫無
1.性狀:四氟化氙的分子構型為平面四邊形,無色單斜晶系結晶。
2.密度(g/cm3):4.04。
3.熔點(℃):117.1。
暫無
暫無
暫無
1.疏水參數計算參考值(XlogP):無
2.氫鍵供體數量:0
3.氫鍵受體數量:4
4.可旋轉化學鍵數量:0
5.互變異構體數量:無
6.拓撲分子極性表面積0
7.重原子數量:5
8.表面電荷:0
9.復雜度:19.1
10.同位素原子數量:0
11.確定原子立構中心數量:0
12.不確定原子立構中心數量:0
13.確定化學鍵立構中心數量:0
14.不確定化學鍵立構中心數量:0
15.共價鍵單元數量:1
暫無
制備XeF4的常用方法是在鎳反應器中加熱氙和氟的混合氣體,并使原料氣中F2/Xe比為5∶1,在400℃的溫度下反應1h,反應完成后使反應器迅速冷卻,但產物中混有一些XeF6和XeF2。
制法 以氙和二氟化二氧在低溫低壓下反應制備四氟化氙。
反應中所用不銹鋼容器和真空管線預先用ClF3和XeF6進行鈍化處理,然后抽真空一整天。O2F2直接由F2和O2合成,此光化學合成反應在裝有藍寶石窗的銅反應器中進行,混合氣體中F2和O2的配比為1∶1。
在-196℃的溫度下,將約0.4g氙和大過量的(10倍或更多)O2F2冷凝在一容積為35mL的圓柱形不銹鋼反應器中,接著將反應器置于-155℃的冷浴(CF2Cl2/液氮)中,并慢慢升溫,使溫度在2~4h內達到-120℃。隨后將反應器置于裝有干冰的杜瓦瓶中,并控制溫度為-78℃,保持在此溫度下過夜,在此期間過剩的O2F2分解為O2和F2,揮發性的物質通過一冷卻至-196℃的冷阱,其中O2和F2被除去,此冷阱中也會有一些白色的固體物質。將-196℃的杜瓦瓶換成-78℃的杜瓦瓶,繼續抽真空1h,產物中混有的CF4,COF2和SiF4等雜質即被除去。剩余的固體物質為XeF4和XeF2的混合物。按照上面所述的同樣方法,再用O2F2與XeF4和XeF2的混合物反應,最后氙幾乎是定量地轉化為XeF4。
四氟化氙是穩定的化合物,可長期儲存在鎳容器中,是一種很強的氧化劑和氟化劑,與水劇烈反應生成Xe,O2,HF和XeO3。
危險運輸編碼:UN 3087 5.1/PG 2
危險品標志:
極毒
氧化劑
安全標識:S17 S26 S28 S45 S36/S37/S39
暫無
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共收錄化學品數據
147579 條