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          物競編號 0934
          分子式 GaAs
          分子量 144.64
          標簽 半導體材料

          編號系統

          CAS號:1303-00-0

          MDL號:MFCD00011017

          EINECS號:215-114-8

          RTECS號:LW8800000

          BRN號:暫無

          PubChem號:24859765

          物性數據

          1.       性狀:立方晶系閃鋅礦型結晶。無氣味。

          2.       密度(g/mL,25℃):6.307

          3.       相對蒸汽密度(g/mL,空氣=1):未確定

          4.       熔點(oC):1238

          5.       沸點(oC,常壓):未確定

          6.       沸點(oC,0.05mmHg):未確定

          7.       折射率(n20/D):未確定

          8.       閃點(oC):未確定

          9.       比旋光度(o):未確定

          10.    自燃點或引燃溫度(oC):未確定

          11.    蒸氣壓(mmHg,20oC):未確定

          12.    飽和蒸氣壓(kPa,60oC):未確定

          13.    燃燒熱(KJ/mol):未確定

          14.    臨界溫度(oC):未確定

          15.    臨界壓力(KPa):未確定

          16.    油水(辛醇/水)分配系數的對數值:未確定

          17.    爆炸上限(%,V/V):未確定

          18.    爆炸下限(%,V/V):未確定

          19.    溶解性:與水反應

          毒理學數據

          1、急性毒性:大鼠引入腹膜LD50:10gm/kg:動作失調
                       小鼠引入腹膜LD50:4700mg/kg

          生態學數據

          對水是極其危害的,即使是少量產品滲入地下也會對飲用水造成危害,若無政府許可勿將產品排入周圍環境。對水中有機物有危害

          分子結構數據

          1、摩爾折射率:無可用的

          2、摩爾體積(cm3/mol):無可用的

          3、等張比容(90.2K):無可用的

          4、表面張力(dyne/cm):無可用的

          5、介電常數:無可用的

          6、極化率(10-24cm3):無可用的

          7、單一同位素質量:143.847178 Da

          8、標稱質量:144 Da

          9、平均質量:144.6446 Da

          計算化學數據

          1.疏水參數計算參考值(XlogP):無

          2.氫鍵供體數量:0

          3.氫鍵受體數量:0

          4.可旋轉化學鍵數量:0

          5.互變異構體數量:無

          6.拓撲分子極性表面積0

          7.重原子數量:2

          8.表面電荷:0

          9.復雜度:10

          10.同位素原子數量:0

          11.確定原子立構中心數量:0

          12.不確定原子立構中心數量:0

          13.確定化學鍵立構中心數量:0

          14.不確定化學鍵立構中心數量:0

          15.共價鍵單元數量:1

          性質與穩定性

          如果遵照規格使用和儲存則不會分解,未有已知危險反應,避免酸、水分/潮濕.

          為一種化合物型半導體,電流通過p-n結,直接發光,可制成激光或發光二極管。此外,本品還可用作功能元件,用于微波振蕩、毫米波放大、光通訊等方面。

          貯存方法

          保持貯藏器密封、儲存在陰涼、干燥的地方,確保工作間有良好的通風或排氣裝置

          合成方法

          圖XIII-20   砷化鎵的制備裝置

          砷化鎵的制備裝置如圖所示,先往一端封閉的透明石英安瓿中送入裝有純鎵的石英盤,然后加入純砷,在5×10-6Torr(1Torr=133322Pa)下,真空封口。砷的加入量為其當量的1.1~1.2倍(因為砷是利用蒸氣壓控制的,所以加入量必須比充滿整個安瓿還要多一些)。為防止砷化鎵及盤受潮濕,必須向盤里面噴砂大約150~300次。將上述安瓿按圖所示裝好,裝有砷的A爐加熱到610℃,裝有鎵的B爐加熱到1250℃(根據安瓿的大小,可按砷摩爾量的1.1~1.2倍加入之)。

          加熱到610℃的砷的蒸氣壓為101.325kPa,與加熱到1250℃的鎵進行反應,產生砷化鎵。經過4~5h后,將安瓿每1h往A爐拉出5~20mm,則從盤的前端逐漸生長出單晶。

          用途

          用于制造光電器件(LCD),激光器(LD),場效應晶體管(FET),高電子遷移率晶體管(HEMT),異質結雙極晶體管(HBT),高速器件和微波單片集成電路(MMIC),微波/毫米波集成電路(MIMIC),高速集成電路,太陽電池。

          安全信息

          危險運輸編碼:UN 1557 6.1/PG 2

          危險品標志:有毒 危害環境

          安全標識:S28 S45 S60 S61

          危險標識:R23/25 R50/53

          文獻

          暫無

          備注

          暫無

          表征圖譜